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制作电路板过程中,常用的腐蚀液是三氯化铁溶液。这一化学反应不仅能够有效去除铜层,而且还能保持电路板表面的清洁与平整。具体反应方程式为:2FeCl3+Cu=CuCl2+2FeCl2。当腐蚀过程结束后,残液中会含有未反应完全的三氯化铁和生成的氯化铜。为了回收利用这些残液中的金属成分,可以加入铁粉进行置换反应。
1、氯化铁溶液的扩展资料 主要用途 主要用于金属蚀刻,污水处理.其中蚀刻包括铜,不锈钢,铝等材料的蚀刻,对低油度的原水处理,具有效果好、价格便宜等优点,但带来水色泛黄的缺点。也用于印染滚筒刻花、电子工业线路板及荧光数字筒生产等。建筑工业用于制备混凝土,以增强混凝土的强度、抗腐蚀性和防水性。
2、氯化铁和铜化学反应方程式:Cu+2FeCl3=2FeCl2+CuCl2。解析:氯化铁是一种共价铁盐化合物,化学式为FeCl3,为黑棕色结晶,呈粉状也略带块状,易溶于水且有强烈的吸水性,易发生潮解,是初高中范围内接触到的水溶液酸性最强的盐之一,这是由于Fe3+的强烈水解反应造成的。
根据我高中时学习化学的记忆,这个反应无论是化学方程式还是离子方程式都不难啊,化学方程式是:2FeCl3+Cu==2FeCl2+CuCl2,离子方程式是2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+(元素符号后面是离子的上标,没办法百度打不出来)。我现在是学习电子专业的大学生,业余制作电路板时确实是使用氯化铁溶液进行腐蚀。
Fe+++ + Cu = Fe++ + Cu+ 说明:用三氯化铁(正三价)与铜反应生成氯化亚铁(正二价)和氯化亚铜(正一价)。
Fe3+ + Cu = 2Fe2+ + Cu2+ (2):装置见图。正极:2Fe3+ + 2e- = 2Fe2+,负极:Cu - 2e- = Cu2+。
2- –2e-=PbSO 4 ,正极:PbO 2 +SO 4 2- +4H + +2e-=PbSO 4 +2H 2 O。(2)氯化铁和铜反应的离子方程式是2Fe 3+ +Cu=2Fe 2+ +Cu 2+ ,所以如果要将该反应设计成原电池,则负极应该是铜,正极是铁离子得到电子,则正极反应式为Fe 3+ +e - =Fe 2+ 。
分) (1)由于铁的价态是+2价或+3价,所以分别是***设2:产物中只有+3价铁元素;***设3:产物中既有+2价又有+3价铁元素。(2)①由于亚铁离子具有还原性,所以如果***设I正确,则现象是甲试管溶液紫色褪去,乙试管没有明显变化。
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